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化合物刷洗机 HSC-S1300

HSC-S1300是jinnianhui金年会面向市场需求研发的主要应用于4/6/8英寸化合物半导体的刷片清洗设备,具备正面和背面刷洗功能,集成性能优越的清洗及干燥技术,兼容酸性溶液清洗/碱性溶液清洗、透光/不透光晶片清洗。

主要应用于4/6/8英寸化合物半导体的清洗

具备正面和背面刷片功能

满足干进干出和湿进干出两种模式

机台兼容酸性溶液清洗和碱性溶液清洗

机台兼容透光和不透光晶片的清洗

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